Рентгеновская флуоресцентная спектроскопия - определение толщины слоя
Артикул: P2545205 Цена: предоставляется по запросу |
Принцип Рентгенофлуоресцентный анализ (XRF) подходит для бесконтактного и неразрушающего измерения толщины тонких слоев, а также для определения их химического состава. Для этого типа измерений источник рентгеновского излучения и детектор располагаются на одной стороне образца. Когда слой на подложке подвергается воздействию рентгеновских лучей, излучение проникает в слой, если он достаточно тонкий, в определенной степени, в зависимости от толщины, и в свою очередь вызывает характерное флуоресцентное излучение в материале подложки. На пути к детектору это флуоресцентное излучение будет ослаблено поглощением в слое. Толщина слоя может быть определена на основе интенсивности ослабления флуоресцентного излучения материала подложки. Задание
Основные термины
← Назад |